協(xié)積實業(yè) 紹興東凱半導體

VCM/CMOS生產(chǎn)與組裝核心清潔痛點與難點

        CM（音圈馬達）與CMOS（圖像傳感器）是攝像頭對焦驅動與成像采集的核心，其精密結構與敏感元件的潔凈度直接決定對焦穩(wěn)定性與成像畫質(zhì)，全流程清潔痛點突出：

• VCM馬達環(huán)節(jié)：組裝過程中易吸附金屬粉末、線圈碎屑、油脂殘留，細微雜質(zhì)易進入馬達內(nèi)部磁路與傳動結構，接觸式清潔易造成線圈變形、磁路偏移，導致對焦卡頓、精度下降，甚至影響馬達使用壽命；
• CMOS芯片環(huán)節(jié)：光刻、封裝過程中易殘留光刻膠、金屬離子，表面易吸附環(huán)境微塵，微塵會直接導致成像噪點、壞點，接觸式清潔易造成芯片靜電損傷、感光層劃傷，人工清潔無法滿足微米級潔凈要求；
• 高端適配環(huán)節(jié)：高端手機、車載攝像頭對VCM對焦精度與CMOS成像質(zhì)量要求極高，細微雜質(zhì)與清潔損傷會直接導致產(chǎn)品不合格，進一步提升了清潔作業(yè)的技術門檻與一致性要求。

東凱·非接觸式旋風清潔設備解決方案

          針對VCM/CMOS的精密結構與敏感特性，我們的設備可實現(xiàn)精準無損清潔，保障組件性能穩(wěn)定：

• 特種結構設計：微納級吸入口陣列布局，精準覆蓋VCM馬達內(nèi)部、CMOS芯片表面及引腳，配合防靜電氣流設計，抑制粉塵靜電吸附與飛散，杜絕清潔過程中的二次污染與靜電損傷；
• 穩(wěn)定性能保障：超精密轉速監(jiān)控+穩(wěn)定轉軸設計，供氣壓波動或即使達到5.0㎏/?時仍保持恒定低震運行，確保清潔過程中VCM線圈無變形、CMOS感光層無劃傷、引腳無損傷；
• 精準高效清潔：基于現(xiàn)場經(jīng)驗與氣流模擬算法，優(yōu)化氣嘴參數(shù)與氣流路徑，實現(xiàn)非接觸式精密除塵，徹底清除VCM內(nèi)部的金屬粉末殘留，以及CMOS表面的微塵；
• 降本提質(zhì)優(yōu)勢：可與攝像頭組裝流水線聯(lián)動，實現(xiàn)自動化清潔，減少人工干預，提升VCM對焦穩(wěn)定性與CMOS成像良率，降低返工與報廢成本，適配各類高端攝像頭VCM/CMOS清潔場景。